可見(jiàn)光衰減片
注:以上參數(shù)僅供參考,可見(jiàn)光衰減片參數(shù)指標(biāo)請(qǐng)咨詢我公司的在線客服人員或致電我公司。可見(jiàn)光衰減片光學(xué)指標(biāo):截止波段:400~700nm@T=0.001%,0.01%,0.1%,1%,10%,20%,30%,40%,50%,60%,70%,80%,90%。
相關(guān)名詞解釋
可見(jiàn)光衰減片應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)療設(shè)備光探測(cè)器、臨床生化分析設(shè)備、化學(xué)檢測(cè)設(shè)備、各種光學(xué)儀器設(shè)備、電子學(xué)顯像系統(tǒng)、紫外測(cè)量?jī)x器、各種激光器、光學(xué)數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、安防監(jiān)控?cái)z像機(jī)、光通訊衰減濾波器。
使用注意事項(xiàng):
1.使用時(shí)請(qǐng)戴好手指套,不要用手指直接觸碰可見(jiàn)光衰減片表面,以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。
2.如可見(jiàn)光衰減片表面臟時(shí),可用無(wú)塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭,否則會(huì)損壞可見(jiàn)光衰減片表面。
3.檢查光路各調(diào)整光軸時(shí),請(qǐng)一定做好相應(yīng)的防護(hù)。
4.如果用了可見(jiàn)光衰減片后系統(tǒng)效果還是不好,請(qǐng)把詳細(xì)光路系統(tǒng)告訴我們,我們來(lái)幫您分析原因,讓您少走很多冤枉路。(當(dāng)然,我們會(huì)對(duì)客戶的方案保密,盡可放心!和客戶一起成長(zhǎng)是我們不變的宗旨)。
可見(jiàn)光衰減片的方法有很多種,包括電鍍、化學(xué)鍍,真空蒸發(fā)鍍以及磁控 濺射鍍膜法。
工業(yè)化生產(chǎn)中人們既關(guān)心產(chǎn)品的綜合性能又要考慮制備成本,在 以上制備方法中化學(xué)鍍膜工藝流程簡(jiǎn)單,成本低廉,且操作簡(jiǎn)便,因此受到人 們的重視,但該方法會(huì)產(chǎn)生廢液,污染環(huán)境;磁控濺射鍍膜工藝技術(shù)先進(jìn), 制備的薄膜具有質(zhì)量保證,是目前廣泛應(yīng)用的一種制備手段,相比于其他方 法,磁控濺射鍍膜具有成膜速率高,基片溫度低,膜粘附性好等鍍膜優(yōu)點(diǎn),而 且對(duì)環(huán)境無(wú)污染,適合低碳要求,是一種綠色制造技術(shù),是最有發(fā)展前景的表 面涂覆技術(shù)之一 。
從市場(chǎng)需求的角度看,滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發(fā)展,但其使用設(shè)備儀器復(fù)雜,靶材尺寸固定,原材料需要加工,成本相 對(duì)較高 。
基于產(chǎn)品性價(jià)比的考慮,有必要對(duì)化學(xué)鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進(jìn)行綜合分析和對(duì)比,進(jìn)而研究工藝參數(shù)對(duì) Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、三維結(jié)構(gòu)、粗糙度以及對(duì)光衰減率的影響,通過(guò)調(diào)節(jié)工藝 參數(shù)來(lái)獲得具有不同光衰減率的光衰減片,從而滿足人們對(duì)不同膜系功能的需 求。
800nm短波通濾光片
中心波長(zhǎng):800+/-5nm透過(guò)波段:350-790nm截止波長(zhǎng):810-1100nm峰值透過(guò)率 :>90%( 按客戶需求)產(chǎn)品尺寸 :( 按客戶需求 )截止深度 :>OD4-OD6 UV-NIR產(chǎn)品材質(zhì) :光學(xué)級(jí)別類玻璃( K9,BK7,B27…
LP780nm長(zhǎng)波通濾光片
光學(xué)指標(biāo): 透過(guò)波段:785nm-1100nm最低透過(guò)率:T>88% 中心波長(zhǎng):780nm±3 截止波段:400nm-750nm
850nm窄帶濾光片
尺寸:1x1mm~80x80mm或φ4~79mm厚度:0.4-1.1mm中心波長(zhǎng):850nm峰值透射率:T>85%半帶寬:20~40nm
LP460nm長(zhǎng)波通濾光片
光學(xué)指標(biāo):中心波長(zhǎng):460±5nm透過(guò)波長(zhǎng):465nm-1200nm平均透過(guò)率:T>90%截止波段:350nm-455nm